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光电化学法研究316L不锈钢在高温水中生成氧化膜的半导体性质

中文摘要

p>316L不锈钢在高温高压水中形成的具有保护性质的氧化膜, 其双层结构具有半导体性质。使用光电化学响应法研究SS316L在288℃高温水中形成的氧化膜的半导体性质, 获得三个主要响应: 带隙宽度2.3eV认为是铁氧化物Fe2O3和/或镍的氢氧化物Ni(OH)2的特征带隙宽度; 2.9和3.5eV认为是铬氧化物Cr2O3的特征带隙宽度; 4.1~4.4eV认为是FexNi1-xCr2O4的特征带隙宽度。通过光电流响应与施加偏压的实验可知, SS316L在此高温水中生成的氧化膜表现n型半导体性质。光电化学技术可以同时获得试样的光电流响应与相角等数据, 用以研究氧化物半导体性质是一种敏感而有效的方法。</p

梁可心、檀玉、张胜寒

10.12074/201611.00451V1

物理学冶金技术金属学、热处理

光电化学响应316L不锈钢氧化膜半导体性质高温水

梁可心,檀玉,张胜寒.光电化学法研究316L不锈钢在高温水中生成氧化膜的半导体性质[EB/OL].(2016-11-14)[2025-08-18].https://chinaxiv.org/abs/201611.00451.点此复制

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